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Shenyang Shangmin Electric Co., Ltd
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MKS 226传感器
    发布时间: 2025-11-18 12:50    

MKS 226/226A是美国 MKS Instruments 公司生产的高性能差分电容压力传感器,属于 Baratron 系列产品,采用先进的电容测量技术,专为需要精确测量微小压力差的工业和科研应用设计。

MKS  226传感器
MKS 226/226A是美国 MKS Instruments 公司生产的高性能差分电容压力传感器,属于 Baratron 系列产品,采用先进的电容测量技术,专为需要精确测量微小压力差的工业和科研应用设计。

产品定位与核心参数

核心参数:
  • 测量原理: 差分电容式,通过测量膜片与电极间的电容变化检测压力差 

  • 测量范围: 全量程可选 0.2~1000 Torr (0.0267~133.3 kPa),标准型号如 10 Torr (1.33 kPa)

  • 精度等级: 高达 ±0.1% FS (满量程),确保测量精准

  • 材质: 全焊接 Inconel® 合金传感器,抗腐蚀,适合恶劣工业环境

  • 输出信号: 多种模拟输出 (0-5V/0-10V/4-20mA),可配置单向或双向校准

  • 响应特性: 快速响应,适合捕捉瞬态压力变化

  • 供电: 需配套 MKS PR400 或类似信号读取器

  • 防护: 工业级外壳,减少 RF/EM 干扰

  • 安全设计: 完全密封焊接,100% 泄漏检测,膜片失效时气体完全 containment 

型号区别:
  • 226A: 标准差分型号 (已停产,现由 226B 替代)

  • 226: 部分资料中与 226A 通用,具体以产品标签为准

工作原理

采用电容式测量技术,核心部件为一个超薄金属膜片和固定电极:
  1. 被测压力差作用于膜片,使其产生微小形变

  2. 膜片位移改变与电极间的距离,导致电容值变化

  3. 电路将电容变化转换为与压力差成正比的电信号

  4. 信号经放大、线性化处理后输出 

独特优势: 测量结果与气体成分无关,特别适合气体成分变化的复杂工业环境 

典型应用场景

1️⃣ 半导体与微电子制造

  • 刻蚀 / 沉积设备: 监测反应腔室与排气管路间的压力差,精确控制工艺气体流量

  • CVD/PVD 系统: 实时监控腔室压力波动,确保薄膜均匀性

  • 光刻机: 环境压力稳定监测,保障光学系统精度

  • 晶圆检测: 微小压力变化测量,评估封装质量

2️⃣ 能源与环保领域

  • 燃料电池: 监测气体流场与冷却系统压力差,优化反应效率

  • 废气处理: 测量脱硫塔、脱硝反应器进出口压力降,监控系统效能

  • HVAC 系统: 精确测量过滤网两端压差,指示更换时机

  • 真空镀膜: 监控真空 chamber 与大气间压差,确保密封性

3️⃣ 医疗与生物科技

  • 呼吸机 / 麻醉设备: 精确监测气道压力差,保障患者安全

  • 生物反应器: 测量发酵罐内压力变化,控制微生物生长环境

  • 医疗面罩测试: 检测口罩两侧压差,评估过滤效率 (如 N95 口罩测试)

  • 药物输送系统: 精密控制微量液体 / 气体压力,确保剂量准确

4️⃣ 科研与实验室应用

  • 材料测试: 测量微小压力变化,研究材料力学性能

  • 流体力学实验: 精确测量风洞 / 水洞内压力分布,获取空气动力学数据

  • 真空研究: 监测真空系统微小泄漏,保障实验环境纯净度

  • 低温物理: 液氦 / 液氮容器液位监测 (通过压差测量)

5️⃣ 其他工业应用

  • 精密制造: 液压系统压力波动监测,确保加工精度

  • 航空航天: 发动机测试台压力差测量,评估性能

  • 印刷 / 涂布: 控制涂布头与基材间压力,确保涂层均匀

  • 真空炉: 监控炉内与环境压力差,保障热处理工艺稳定性

选型与使用要点

选型建议:
  • 根据测量范围选择合适量程 (推荐实际压力在满量程的 30%-80% 范围内)

  • 腐蚀性介质选择 Inconel 材质,一般工业环境可选标准型

  • 根据控制系统选择匹配的输出信号类型 (0-10V 或 4-20mA)

  • 如需双向测量,确认输出信号支持正负值

使用注意事项:
  • 必须配套 MKS 信号读取器 (如 PR400) 使用,不直接与 PLC/DCS 连接

  • 安装时确保压力接口密封良好,避免泄漏影响测量精度

  • 定期校准 (建议每年一次),维持测量准确性

  • 避免在超出额定压力范围的环境使用,防止膜片损坏 

总结

MKS 226/226A 差分电容压力传感器以其高精度、抗腐蚀和气体成分不敏感性,成为工业自动化、半导体制造和科研领域压力测量的理想选择。无论是需要精确控制的半导体工艺,还是要求严苛的医疗设备,亦或是前沿科研实验,它都能提供可靠的压力监测解决方案,为工艺优化和设备安全保驾护航
  • U102RWM001 XCG    

  • U202DST600 000    

  • U201SCN02A 000    

  • U201DST600 000    

  • U202SCN04A 000    

  • U10XARR001 210    

  • UC21CN XBS    

  • U202DST600ZB    

  • E8132TVFRJS_5    

  • U204SPM/LVA00